曝光機(jī)是用來(lái)干什么的，曝光機(jī)它被廣泛用于半導(dǎo)體，微電子，生物器件和納米科技領(lǐng)域中。曝光機(jī)是指通過(guò)開(kāi)啟燈光發(fā)出UVA波長(zhǎng)的紫外線(xiàn)，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有感光物質(zhì)的表面上的設(shè)備。
曝光機(jī)更廣范圍（UV，DUV，NUV）的紫外光波長(zhǎng)選擇，出射光強(qiáng)范圍: 8mW/cm2~40mW/cm2。它支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式。
我們常見(jiàn)的曝光機(jī)有：MYCRO美國(guó)制造的恩科優(yōu)（N&Q）紫外曝光系統(tǒng)，適用于從特殊大小的基片到4尺寸很寬廣范圍材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系統(tǒng)成功地應(yīng)用于半導(dǎo)體制造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)，凹凸或覆晶設(shè)備和其他要求精細(xì)印制和精度對(duì)準(zhǔn)的應(yīng)用。